PULSTECパルステック工業株式会社English
お問い合わせ営業日案内サイトマップ
トップページ製品情報研究開発サポート情報IR情報会社情報採用情報
トップページ > 製品情報 > 光応用分野 > ナノ技術
製品情報 Products Information
X線応用分野
光応用分野
光ディスク関連分野
展示会案内
Office & Agency
主要事業所案内(営業所)
関連会社・代理店案内


ナノ技術
ナノ技術:ナノメータサイズで加工する
NEOシリーズ ナノ加工装置
 
 
 画像:NEOシリーズ ナノ加工装置
 
 画像:NEOシリーズ ナノ加工装置
 
カタログのご請求はこちらから
 
特長
ナノテク技術を用い、基板(半導体ウエハやガラス)上に成膜したレジスト全面へ、基板を回転させながら、大気中で高速にナノメータサイズのナノパターンを直接描画(ナノ露光)する装置です。
光源として可視光半導体レーザを使用することにより、従来の描画装置に比べコンパクト・低価格化を実現しました。
 レーザ加工装置、レーザ露光装置として熱リソやフォトリソにも対応可能です。
用途/使用例
光学フィルタ、グレーティング
反射防止構造体 (モスアイ構造)
フォトニック結晶
ナノインプリント用金型
マスタリング装置
その他サブ波長の微細加工用途
  
本装置は、独立行政法人産業技術総合研究所 近接場光応用工学研究センターと共同開発しました。
 
計測例


●光応用分野に関するご質問は「光応用分野Q&A」をご確認ください。


PDFファイルをご覧いただくには、Adobe Readerが必要です。
Adobe Readerはアドビシステムズ社より無償配布されています。
Adobe Reader をダウンロード

お問い合わせ
 光応用分野のトップへ




プライバシーポリシー