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 2011年度第4回ナノインプリント技術研究会にて講演のご案内

 2011年度第4回ナノインプリント技術研究会
公益社団法人応用物理学会ナノインプリント技術研究会が主催する「2011年度第4回ナノインプリント技術研究会」にて、弊社技術部システム技術課の石田雄三が「レーザ直接描画によるシームレスローラモールドの作製」と題して講演します。
開催日 2011年12月2日(金) 13:10〜17:00
受付 12:30〜
弊社石田の講演時間は15:00〜15:40です。
場所
神田情報オアシス 神田北スペース 3F JR神田駅徒歩3分
テーマ レーザ直接描画によるシームレスローラモールドの作製
発表者 パルステック工業株式会社 技術部システム設計課 石田雄三
補足事項 聴講はナノインプリント技術研究会会員に限られます。
URL http://nanoimprint.jp/1202_2011.html
弊社関連製品
NEOシリーズ ナノ加工装置


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