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 NNT2011 Nanoimprint and Nanoprint Technology 併設学会のご案内

 展示会 NNT2011 Nanoimprint and Nanoprint Technology 併設学会

会期中は多数のご来場ありがとうございました。
製品に関するお問い合わせは、どうぞお気軽にお寄せ下さい。
開催日
2011年10月19日(水)〜10月21日(金) 9:00〜17:00
場所
    韓国 済州島 新羅ホテル
ブースNo.7
展示製品
  高速かつ広範囲へのナノメータサイズの露光を可能にしたナノ加工装置 "NEO-series"
コンセプト 第11回ナノインプリント国際学会(NNT 2011)においてナノインプリント向けシームレスロールの製作技術の発表、また併設の展示会においてNEOシリーズのご紹介をさせていただきます。
展示会URL http://www.nnt2011.org/
講演会のご案内
開催日
2011年10月21日(金) 11:25〜11:40
場所 韓国 新羅ホテル
テーマ Fabrication of seamless roll mold for nano-imprint process
発表者 パルステック工業株式会社 須山 洋行
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