PULSTECパルステック工業株式会社English
お問い合わせ営業日案内サイトマップ
トップページ製品情報研究開発サポート情報IR情報会社情報採用情報
トップページ > 新着情報履歴 > nano tech 2010 出展のご案内
新着情報履歴


  
 nano tech 2010 出展のご案内

 nano tech 2010

会期中は多数のご来場ありがとうございました。
製品に関するお問い合わせは、どうぞお気軽にお寄せ下さい。
開催日
2010年2月17日(水) 〜 2月19日(金) 10:00 〜 17:00
場所
  東京ビッグサイト 東4・5・6ホール 
ブース番号D-07 (静岡県ブースエリア内)
展示製品
ナノ加工装置 NEOシリーズ
コンセプトナノメータサイズの高速光描画が可能なナノ加工装置 NEOシリーズ を展示します。
ナノ加工装置 NEO シリーズは、レジストを成膜したワークを回転させながら、ナノメータサイズの露光(加工)を、高速・大面積で行うことが可能です。光源として可視光半導体レーザを使用することによって、大気中で露光(加工)を行うことができ、従来の描画装置に比べコンパクト・低コスト化を実現しました。高速オートフォーカス機能を有しており、平面だけでなく3次元形状、うねった面、曲面に対しても高精度露光(加工)を可能としました。
スタッフ一同、皆さまのご来場を心よりお待ち申し上げます。
展示会URLhttp://www.nanotechexpo.jp/index.html
お問い合わせ
 新着情報履歴へ




プライバシーポリシー