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 セミコン・ジャパン2009出展のご案内

 セミコン・ジャパン2009

会期中は多数のご来場ありがとうございました。
製品に関するお問い合わせは、どうぞお気軽にお寄せ下さい。
開催日
2009年12月2日(水)〜12月4日(金) 10:00 〜 17:00
場所
  幕張メッセ イベントホール 
ブース番号 P-20
展示製品
ナノ加工装置 NEOシリーズ
コンセプトナノメータサイズの高速光描画が可能なナノ加工装置NEOシリーズを展示します。
ナノ加工装置NEOシリーズは、半導体レーザを用い、基板(半導体ウエハやガラス)上に成膜したレジスト全面へ、基板を回転させながら、大気中で高速にミクロンからサブミクロンまでのドット、ラインパターンを直接描画する装置です。今回コア技術であるオートフォーカス機能を用い、平面露光だけでなく、さまざまな分野への応用が期待される3次元形状への露光装置を出展します。
また、特設パビリオンゾーンステージでは下記講演会も予定しています。
スタッフ一同、皆様のご来場を心よりお待ち申し上げています。
製品および出展に関するお問い合わせはどうぞお気軽にお寄せください。
展示会URLhttp://www.semiconjapan.org/sj-jp/index.htm
講演会のご案内
開催日
2009年12月2日(水) 16:10 〜 16:35
場所メッセ6ホール内 パビリオン併設ステージ
「ナノインプリント技術ワークショップ」
テーマナノ加工装置“NEO-1000” 3次元形状への応用
発表者パルステック工業株式会社 光応用カテゴリー 池谷博文
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